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    Journal Of The Society For Information Display

    信息顯示學(xué)會會刊
    國際簡稱:J SOC INF DISPLAY

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    Journal Of The Society For Information Display

    SCIE

    按雜志級別劃分: 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

    • 4區(qū) 中科院分區(qū)
    • Q3 JCR分區(qū)
    • 56 年發(fā)文量
    • 100.00% 研究類文章占比
    • 7.84% Gold OA文章占比
    ISSN:1071-0922
    創(chuàng)刊時間:1993
    是否預(yù)警:否
    E-ISSN:1938-3657
    出版地區(qū):UNITED STATES
    是否OA:未開放
    出版語言:English
    出版周期:Monthly
    影響因子:1.7
    出版商:Wiley-Blackwell
    審稿周期: 較慢,6-12周
    CiteScore:4.8
    H-index:45
    出版國人文章占比:0.29
    開源占比:0.0736
    文章自引率:0.0869...

    Journal Of The Society For Information Display雜志簡介

    Journal Of The Society For Information Display是由Wiley-Blackwell出版商主辦的工程技術(shù)領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊,自1993年創(chuàng)刊以來,一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(ISSN:1071-0922,E-ISSN:1938-3657),出版周期Monthly,其出版地區(qū)設(shè)在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動工程技術(shù)專業(yè)及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學(xué)科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文,提倡學(xué)術(shù)爭鳴,激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新,開展國際間學(xué)術(shù)交流,為工程技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

    該期刊文章自引率0.0869...,開源內(nèi)容占比0.0736,出版撤稿占比0,OA被引用占比0.0612...,讀者群體主要包括工程技術(shù)的專業(yè)人員,研究生、本科生以及工程技術(shù)領(lǐng)域愛好者,這些讀者群體來自全球各地,具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Journal Of The Society For Information Display已被國際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用,有助于推動ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。

    CiteScore(2024年最新版)

    • CiteScore:4.8
    • SJR:0.588
    • SNIP:1.164
    學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
    大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 280 / 797

    64%

    大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q2 80 / 224

    64%

    大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 106 / 284

    62%

    CiteScore: 這一創(chuàng)新指標力求提供更為全面且精確的期刊評估,打破了過去僅依賴單一指標如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個學(xué)科領(lǐng)域,從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標準化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標,幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標的詳細信息。

    CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比

    Journal Of The Society For Information Display中科院分區(qū)表

    中科院分區(qū) 2023年12月升級版
    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
    中科院分區(qū) 2022年12月升級版
    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
    中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
    中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
    中科院分區(qū) 2021年12月升級版
    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
    中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
    中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖

    WOS期刊JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

    按JIF指標學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 227 / 352

    35.7%

    學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 321 / 438

    26.8%

    學(xué)科:OPTICS SCIE Q3 73 / 119

    39.1%

    學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 125 / 179

    30.4%

    按JCI指標學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 217 / 354

    38.84%

    學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 273 / 438

    37.79%

    學(xué)科:OPTICS SCIE Q3 77 / 120

    36.25%

    學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 115 / 179

    36.03%

    JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國際通用和公認的期刊分區(qū)標準。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫,按照期刊的影響因子進行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標準與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個學(xué)科,每個學(xué)科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

    歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

    年份 年發(fā)文量
    2014 40
    2015 77
    2016 75
    2017 76
    2018 76
    2019 66
    2020 110
    2021 83
    2022 65
    2023 56

    期刊互引關(guān)系

    被他刊引用情況
    期刊名稱 引用次數(shù)
    OPT EXPRESS 90
    J SOC INF DISPLAY 64
    LIQ CRYST 32
    IEEE ELECTR DEVICE L 29
    IEEE T ELECTRON DEV 27
    J MATER CHEM C 25
    JPN J APPL PHYS 20
    ACS APPL MATER INTER 19
    APPL OPTICS 19
    IEEE J ELECTRON DEVI 19
    引用他刊情況
    期刊名稱 引用次數(shù)
    OPT EXPRESS 81
    J SOC INF DISPLAY 64
    APPL PHYS LETT 53
    APPL OPTICS 35
    ADV MATER 24
    J APPL PHYS 22
    NATURE 22
    DISPLAYS 19
    IEEE ELECTR DEVICE L 19
    ACM T GRAPHIC 18
    若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:SOC INFORMATION DISPLAY, 1475 S BASCOM AVE, STE 114, CAMPBELL, USA, CA, 95008。

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